EM公司网址:http://www.emresist.com/
EM产品介绍:
1:PMMA Resist
我司代理的英国EM Resist Ltd公司的正性PMMA光刻胶,是一款高分辨光刻胶,可用于纳米压印应用,以及石墨烯薄片转移等其他研发过程。
如果您有任何产品问题,欢迎随时联系。
2:SML Resist
SML 系列光刻胶 厚度从50nm到2um,高性能高分辨率高深宽比正性光刻胶,垂直性好,耐刻蚀,与基地黏附性好,高性能SML光刻胶是一种新型聚合物,是专为满足EBL领域的需求而设计的。即使在低加速度电压和不借助接近效应校正的情况下,它也可以同时被打造成高分辨率和高深宽比的图案。可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件。SML符合标准的PMMA工艺,不需改变工艺条件。
如果您有任何具体要求,请与我们联系。